ULSI Process 연구실
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0.5 마이크로미터급 이하의 초고밀도집적(ULSI) 반토체 소자의 제조를 위해 필요한 신물질의 연구와 process의 개발을 주된 연구분야로 한다. Chemical vapor deposition, thermal process, sputtering 등을 이용한 유전체박막과 절연막의 제조, 고밀도 플라즈마를 이용한 식각공정 device structure, 반도체 소자의 전기적 평가, 재료의 물성 등을 연구중이다. 또한 포항 가속기 연구소의 설립으로 우리나라에서도 연구가 시작되고 있는 Gb급 반도체 소자제조에 응용이 기대되는 반사광(synchrotron Radiation)을 이용한 X - ray lithography 용 mask의 재료와 process 개발과 micro - machine의 연구도 진행중이다.
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